真空泵廠家分析真空壓力控製（zhì）係統如何優化。芯片的刻蝕工藝通常要在（zài）一個受控的真空環境下工（gōng）作，反應腔的功（gōng）能是（shì）在真（zhēn）空環境中保持工藝參數需要的壓力（lì），去除不（bú）需要的水汽、空（kōng）氣和附加反應物；創建一個能夠使等離子體發生反應的真空環境。為了降低刻蝕（shí）機真空壓力控製係統的成本（běn），實現（xiàn）高真空獲（huò）得設備的清潔化、簡單化和微型化，同時為了提高真空係統的抽氣（qì）速率和極限真空，係統中的腔、真空泵以及連（lián）接管路和閥門的選配是很重（chóng）要的。

刻（kè）蝕機為了保證刻蝕工藝需要的穩定工作壓力，大抽速真空係統是必不可少的組成部分。香蕉污视频真空泵廠家詳（xiáng）細地介紹反應腔、真空泵的選擇、真空閥門的選配、真空計和真空檢測開關、真空計和真空檢測開關和連接管路。

真空（kōng）泵廠家分析真空壓力控製（zhì）係統如何優化？要從以下五個（gè）方麵展開：

⑴反應腔

反應腔是真空係（xì）統的基本部件，不同刻蝕（shí）的反應腔形狀和大小不同，但都屬（shǔ）於（yú）受（shòu）負壓的容器（qì）。為了（le）增加芯片產能的需要反應腔采用的是多工位設計，這就（jiù）需要真（zhēn）空泵的抽速滿足其要求。多工位設計要保證多個工位芯片的均勻性是很（hěn）難的。必須加大真（zhēn）空泵的抽氣（qì）速率，分子（zǐ）泵是最好（hǎo）的選擇。根據不同工藝的需要，反應腔的工作壓力一般在10^-3-10^-2Torr之間，既要（yào）保證反應腔的真空度（dù），又（yòu）要保證（zhèng）工藝氣體的（de）壓力，確保反應腔工作在真空穩定的狀態（tài）下，這一直是真（zhēn）空泵廠家研究的課題。

⑵真空泵的選擇

真（zhēn）空泵是獲得真空的關鍵設備，至今還沒有一種泵能從大（dà）氣壓一直工作到接近超真空，必須兩種或以上（shàng）的泵聯合使用，螺杆式幹泵屬於容積泵類型，其工作循環可分為吸氣、壓縮和排氣三個過程，其優點是結構穩定（dìng），重心低，轉動平穩（wěn），振動小，噪音小。分（fèn）子泵有牽引分子泵、渦輪分子泵和複合式分子泵等，分子泵的選型根據刻（kè）蝕反應腔壓力和容積的不同而不同。

⑶真空閥門的選配

選擇鍾擺閥是為了配合分子泵大口徑尺寸的需要，鍾擺閥的開度（dù）大反應腔的壓力（lì）就減小，但是當開度大到一定程度時，由（yóu）於泵的抽速有（yǒu）限，反應腔（qiāng）的真空就被限製住了，真（zhēn）空壓力就不能繼續減小。所以要選擇鍾擺閥適合的工作（zuò）開度，以滿足刻蝕工藝工作壓力的要求。

⑷真空計和真空檢測開關

真空計能（néng）時刻監控反應腔和管路（lù）的壓力，在反應腔和管路上設置真空計，當真空度達到一定值時（shí），開啟或關閉真空閥門。真空計的分類主要有兩種方法：①按真計（jì）讀數的刻度方（fāng）法進行分類，即絕對真空計和相（xiàng）對真空計；②按真空計測量（liàng）原理（lǐ）進行分類，即直接測量真空計和間接測量真空計。薄膜式電容真空計是間接測（cè）量的絕（jué）對真空計，由於具有性能穩定，重複性好（hǎo），而且（qiě）其響應速度快，抗過載能力強，結構（gòu）牢固，使用方便的特點，因此被業界廣泛應用。為了安全考慮（lǜ），真空管（guǎn）路必須設置大氣真空開關，當壓力值（zhí）達（dá）到一個大氣壓時真空開關自動打開排氣，保護反應腔和（hé）管路（lù）係統的真空儀器。

⑸連（lián）接管

真（zhēn）空係（xì）統最重要的性能參數（shù）是其所能獲（huò）得的極限真空（kōng）度和對反應腔的有效抽速，真空係統的極限真空度是指在沒有外加（jiā）負荷的情況下，經過足夠長時間的抽氣後，係統所能達的最低壓力。

進口真空泵廠家表示任何（hé）真（zhēn）空係統絕對不漏的現象是（shì）不可能的，所以真（zhēn）空管（guǎn）路上需要設置檢漏口，方便進行真空檢漏。